이온빔이 조사되는 위치에만 순수 그래핀 양자점을 제조할 수 있는 기술로, 고순도/고결정성 그래핀 양자점을 제조 및 마이크로 미터 이하의 초정밀 미세 패터닝 할 수 있는 기술
초정밀 미세 그래핀 양자점 패터닝이 가능하여 응용분야가 광범위한 기술
이온빔으로 제공된 촉매 이온에서 그래핀 양자점이 성장하여 그래핀이나 흑연과 같은 고결정성을 보여주어 결정성이 매우 높은 고결정성 그래핀 양자점 제조 가능
이온빔 조사를 이용한 간편한 공정으로 기판 상에 선택적으로 고순도/고결정성의 그래핀 양자점을 제조할 수 있어 세도우 마스크를 이용한 단순 패턴과 반도체공정을 접목하여 그래핀 양자점 회로, 어레이 패턴 등 패터닝 가능