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고순도/고결정성 그래핀 양자점 패터닝 기술
분야

고순도/고결정성 그래핀 양자점 패터닝 기술

보유기관 및 연구자 : 한국원자력연구원

개발상태
4/9

기술완성도

TRL09

사업화

  • 본격적인 양산 및 사업화 단계
TRL08

시작품 인증/
표준화

  • 일부 시제품의 인증 및 인허가 취득 단계
    - 조선 기자재의 경우 선급기관 인증, 의약품의 경우 식약청의 품목 허가 등
TRL07

Pilot 단계 시작품
신뢰성 평가

  • 시작품의 신뢰성 평가
  • 실제 환경(수요기업)에서 성능 검증이 이루어지는 단계
TRL06

Pilot 단계 시작품
성능 평가

  • 경제성(생산성)을 고려한, 파일로트 규모의 시작품 제작 및 평가
  • 시작품 성능평가
TRL05

시제품 제작/
성능평가

  • 개발한 부품/시스템의 시작품(Prototype) 제작 및 성능 평가
  • 경제성(생산성)을 고려하지 않고, 우수한 시작품을 1개~수개 미만으로 개발
TRL04

연구실 규모의
부품/시스템 성능평가

  • 연구실 규모의 부품/시스템 성능 평가가 완료된 단계
  • 실용화를 위한 핵심요소기술 확보
TRL03

연구실 규모의
성능 검증

  • 연구실/실험실 규모의 환경에서 기본 성능이 검증될 수 있는 단계
  • 개발하려는 시스템/부품의 기본 설계도면을 확보하는 단계
  • 모델링/설계기술 확보
TRL02

실용 목적의 아이디어/
특허 등 개념 정립

  • 실용 목적의 아이디어, 특허 등 개념 정립
TRL01

기초 이론/
실험

  • 연구과제 탐색 및 기회 발굴 단계

기술개요

이온빔이 조사되는 위치에만 순수 그래핀 양자점을 제조할 수 있는 기술로, 고순도/고결정성 그래핀 양자점을 제조 및 마이크로 미터 이하의 초정밀 미세 패터닝 할 수 있는 기술

기존기술 대비 개선점

초정밀 미세 그래핀 양자점 패터닝이 가능하여 응용분야가 광범위한 기술
이온빔으로 제공된 촉매 이온에서 그래핀 양자점이 성장하여 그래핀이나 흑연과 같은 고결정성을 보여주어 결정성이 매우 높은 고결정성 그래핀 양자점 제조 가능
이온빔 조사를 이용한 간편한 공정으로 기판 상에 선택적으로 고순도/고결정성의 그래핀 양자점을 제조할 수 있어 세도우 마스크를 이용한 단순 패턴과 반도체공정을 접목하여 그래핀 양자점 회로, 어레이 패턴 등 패터닝 가능